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離子鍍膜設(shè)備是采用冷陰極自持弧光放電,瞬間使鍍膜材料受熱蒸發(fā),靶材離子及原子等高速運動到基材表面沉積膜層的鍍膜原理,是具有沉積速率快,離化率高等特點的鍍膜設(shè)備,膜層光亮致密,我公司自主開發(fā)全自動控制系統(tǒng)可實現(xiàn)一鍵化操作;適合高端產(chǎn)品涂層鍍膜的穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)。
一、產(chǎn)品概述
1、功能:適用于各種金屬與非金屬表面鍍制金屬膜層(金、銀、銅、鋁、鉻、鋯、鈦等)、合金膜層(鈦鋁、鎳鉻、鉻鋁等)、化合物膜層(TiN、TiC、TiNC、CrN、TiAlN等)、多層復(fù)合膜等。因其無污染,潔凈環(huán)保,廣泛應(yīng)用于餐具、五金產(chǎn)品、工藝品、衛(wèi)浴產(chǎn)品、板材、貨架等各種裝飾、功能涂層等領(lǐng)域。
2、產(chǎn)品特點:離子鍍膜設(shè)備是采用冷陰極自持弧光放電,瞬間使鍍膜材料受熱蒸發(fā),靶材離子及原子等高速運動到基材表面沉積膜層的鍍膜原理,是具有沉積速率快,離化率高等特點的鍍膜設(shè)備,膜層光亮致密,我公司自主開發(fā)全自動控制系統(tǒng)可實現(xiàn)一鍵化操作;適合高端產(chǎn)品涂層鍍膜的穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)。
二、技術(shù)參數(shù)
型號 | LZD1300 |
真空腔室尺寸 | Φ1300×H1200mm |
真空系統(tǒng) | 國產(chǎn)或進口分子泵/擴散泵+羅茨泵+機械泵高真空系統(tǒng) |
極限真空 | 優(yōu)于2.0×10-4Pa |
抽速 | 從大氣到3.3×10-3Pa≤30min,升壓率關(guān)機12小時后真空度≤10Pa |
工件架尺寸 | 12-24工位可選 |
工件烘烤溫度 | 室溫~200℃,可調(diào)可控(PID控溫) |
配置 | 弧源(柱弧、圓?。?、離子源、偏壓 |
系統(tǒng) | 全自動控制系統(tǒng),個性化的Tech-Coating控制菜單,安全保護系統(tǒng) |
占地面積 | 長×寬:4m×3m |