HIPIMS是高功率脈沖磁控濺射技術(shù)(High power impulse magnetron sputtering)的簡(jiǎn)稱,其原理是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來產(chǎn)生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術(shù),HIPIMS的峰值功率可以達(dá)到MW級(jí)別,但由于脈沖作用時(shí)間短,其平均功率與普通磁控濺射一樣,這樣陰極不會(huì)因過熱贈(zèng)增加靶材冷卻。HIPIMS綜合了磁控濺射低溫沉積、表面光滑、無顆粒缺陷和電弧離子鍍金屬離化率高、膜層結(jié)合力強(qiáng)、涂層致密的優(yōu)點(diǎn),且離子束流不含大顆粒,在控制涂層微結(jié)構(gòu)的同時(shí)獲得優(yōu)異的膜基結(jié)合力,在降低涂層內(nèi)應(yīng)力及提高膜層致密性、均勻性等方面具有閑著的優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是PVD發(fā)展史上近30年來最重要的一項(xiàng)技術(shù)突破,特別是在硬質(zhì)涂層和功能涂層的應(yīng)用方面有顯著優(yōu)勢(shì)。