微弧氧化技術(shù)(MAO)它是在陽(yáng)極氧化的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù)。它是在含有特定離子的電解質(zhì)中，通過(guò)弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料的表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)。膜層具有耐腐蝕性高、硬度高、耐磨性好、阻抗高、隔熱性好等特點(diǎn)。
當(dāng)微弧氧化膜層生長(zhǎng)時(shí)，首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生一層陽(yáng)極氧化膜。當(dāng)反應(yīng)電壓增加時(shí)，膜厚度會(huì)進(jìn)一步增加，電壓會(huì)繼續(xù)增加，厚度會(huì)相應(yīng)增加。但當(dāng)反應(yīng)電壓增加到一定程度時(shí)，膜層會(huì)因無(wú)法承受工作電壓而放電和擊穿，產(chǎn)生等離子體放電。反應(yīng)的高溫會(huì)熔化膜層，氧化物會(huì)在富氧環(huán)境中形成。同時(shí)，因?yàn)樗陔娊赓|(zhì)中，熔融物瞬間冷凝，在基體表面產(chǎn)生一層陶瓷。陶瓷膜的產(chǎn)生會(huì)導(dǎo)致工作電壓進(jìn)一步升高，膜層再次被擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加，膜層反復(fù)生長(zhǎng)。
