高功率脈沖磁控濺射技術(shù)是一種高脈沖峰值功率和低脈沖占空比產(chǎn)生高濺射金屬離化率的磁控濺射技術(shù)。
德國是機械引進的 huttinger 電源沉積在等離子體中（PIII&D）該方法相結(jié)合，形成了一種新穎的成膜工藝和質(zhì)量控制技術(shù)，是一種可應(yīng)用于大型矩形靶的離化率可控磁控濺射新技術(shù)，填補了國內(nèi)研究方向的空白。
將高能沖擊磁控濺射與高壓脈沖偏壓技術(shù)結(jié)合起來，利用其高離化率和淹沒性的特點，實現(xiàn)高膜基結(jié)合力、高質(zhì)量、高均勻性薄膜的制備。
同時，結(jié)合新的粒子能量和成膜過程反饋控制系統(tǒng)，開展了高離化率等離子體發(fā)生、等離子體時空演變和荷能粒子成膜物理過程控制的研究和工程應(yīng)用。其核心技術(shù)擁有獨立的知識產(chǎn)權(quán)，并申請了兩項相關(guān)的發(fā)明專利。
實現(xiàn)這一技術(shù) PVD 突破沉積關(guān)鍵瓶頸具有重要意義，有助于提高我國在表面工程加工領(lǐng)域的國際競爭力。例如，在交通領(lǐng)域，該技術(shù)用于汽車發(fā)動機的三個部件，可以減少摩擦 降低油耗25% 3%；在機械加工領(lǐng)域，先進涂層的沉積可以提高工具的使用壽命 2～10 倍，加工速度提高 30-70%；
綜上所述，該設(shè)備系統(tǒng)將在衛(wèi)星通信、等離子體物理、新材料等領(lǐng)域具有重要的工業(yè)應(yīng)用價值。高功率脈沖磁控濺射等離子體的發(fā)生與成膜控制平臺的工作。
高功率脈沖磁控濺射應(yīng)用領(lǐng)域：
高溫涂層：汽車、航空航天、軍事等先進制造業(yè)的應(yīng)用；
稀土鋁耐腐蝕膜：NdFeB 磁鐵行業(yè)環(huán)保涂料的應(yīng)用；
太陽能薄膜：光伏發(fā)電及新能源應(yīng)用；
生物工程膜：生物醫(yī)學領(lǐng)域的應(yīng)用。
