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鎂合金微弧氧化和普通陽極氧化區(qū)別_蘇州粵輝煌專注微弧氧化加工處理服務

鎂合金微弧氧化和普通陽極氧化區(qū)別

發(fā)布時間:2021-07-24閱讀量:885

       微弧氧化的膜層由細密層和疏松層兩層構成,與普通陽極氧化膜相比,微弧氧化膜的空地小,空地率低,膜層與基體結(jié)合嚴密,質(zhì)地堅硬,分布均勻,然后具有更高的耐蝕性和耐磨性能。

       微弧氧化工件的形狀可以較為復雜,部分內(nèi)外表也可以處理。此外,微弧氧化工藝流程比陽極氧化簡單得多。

       鎂合金微弧氧化檢驗規(guī)范

       氧化膜質(zhì)量因氧化方法不同而異,一起因為材料用途不同,對氧化膜質(zhì)量要求也有所差別。因此,鎂合金氧化膜質(zhì)量目前尚無統(tǒng)一的規(guī)范,最常見的判定方法如下:

       1、外觀查看,查看氧化膜顏色是否均勻,是否存在黑斑、花紋、起泡、銹蝕、擦傷、膜裂、針孔等缺陷,膜層是否細密,與基體附著力巨細怎么。

       2、氧化膜有關物理性能的測定,包含膜厚、孔隙度和顯微硬度等。

經(jīng)過化學氧化處理的鎂合金零件在使用前需涂覆一層涂料作為補充保護。涂層數(shù)一般不得少于3層。

如果零件外表不涂覆涂料,而是靜電噴涂后再在流態(tài)化床涂覆環(huán)氧樹脂粉末,則固化后涂層的耐蝕性遠遠超越氧化處理后涂覆涂料的防護效果。

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