高功率脈沖磁控濺射(High-power impulse magnetron sputtering，HiPIMS) 是一種最高值輸出功率極高，濺射靶材分子高寬比離化的離化物理學(xué)液相沉積技術(shù)性。HiPIMS 電源高壓脈沖輸出到磁控靶的脈沖功率可以達(dá)到103kW/cm2；增加在濺射靶上的負(fù)工作電壓僅有在做到或超出“山崩式”放電體制的閾值電壓時(shí)才可以得到百安級(jí)。
靶電流量最高值；在瞬間髙壓脈沖的功效下，挨近靶表層的離化地區(qū)等離子體相對(duì)密度能夠做到1018 1019 m*3，試測(cè)得Cu 等離子體的離化率可以達(dá)到60%s70%；占空比、頻率、波型等脈沖特點(diǎn)對(duì)等離子體放電有明顯危害，從而危害沉積速度和塑料薄膜特性；對(duì)比直流電磁控濺射，能夠得到更為光滑高密度的沉積塑料薄膜，改進(jìn)膜基融合反映。
與此同時(shí)有著優(yōu)良的繞鍍性；偏壓、沉積速度和標(biāo)準(zhǔn)氣壓待會(huì)對(duì)HiPIMS 的沉積全過程造成危害，從而危害塑料薄膜的顯微鏡機(jī)構(gòu)和物理性能。
